ICP-RIE刻蚀系统
仪器编号：202432821B
运行状态：正常
功率：80000 W
测试单价：1000.00 元 / 小时
已测试数：112 次
联系人电话：0551-63601478
联系人邮箱：zhuwl@ustc.edu.cn
用于硅、SOI、氧化硅、氮化硅等微纳米结构刻蚀，其中硅刻蚀Bosch工艺，可以实现高深宽比刻蚀.
