高真空多靶磁控溅射镀膜系统

仪器编号：202349230S

运行状态：正常

功率：15000 W

能源单价：8.48 元 / 小时

测试单价：100.00 元 / 小时

已测试数：68 次

联系人电话：15754313667

1. 适用于开发纳米级单层、 多层及复合膜层等； 2. 适用于制备金属膜、 合金膜、 半导体膜、 陶瓷膜、 介质膜等， 例： 银、 铝、 铜、 镍、 铬、 镍铬合金、 氧化钛、 氮化钛、 氮化铬、 ITO、 二氧化硅等； 3. 适用于三靶单独溅射、 依次溅射、 共同溅射； 2.产品布局图 见附表