光刻机

仪器编号：202224701S

运行状态：正常

功率：600 W

能源单价：0.34 元 / 小时

测试单价：150.00 元 / 小时

已测试数：52 次

联系人电话：18756909959

µMLA可以并提供两种曝光模式。 第一种是标准 µMLA 使用光栅扫描曝光模式进行曝光，该模式速度快，可提供出色的图像质量和保真度，而写入时间与图案密度的结构尺寸无关。第二种是矢量扫描模式，旨在以更快、更准确的方式对连续平滑曲线进行图案化。另外还配备三种光学设置以提供可变分辨率和通量的选择。 每种都可以在不同的分辨率和速度配置之间轻松切换，以优化给定应用的曝光。 绘制模式可以对现有结构以及纳米线或 2D 材料的电接触进行直接的临时修改。 灰度曝光模式允许创建复杂的 2.5 结构，例如微型光学器件。