多源磁控溅射镀膜系统

仪器编号：2020792809

运行状态：正常

功率：4000 W

测试单价：150.00 元 / 小时

已测试数：117 次

联系人电话：17718150949

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磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。