等离子体化学气相沉积系统

仪器编号：2018148904

运行状态：正常

功率：0 W

能源单价：0.00 元 / 小时

测试单价：0.00 元 / 小时

已测试数：90 次

联系人电话：18607555927

等离子体增强化学气相沉积利用射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，等立体促进气体系列化学反应，在样品表面形成固态薄膜。可用于微纳结构中抗腐蚀层和半导体器件中的SiOx、SiNx等绝缘层低温条件下的薄膜生长。具有沉积基本温度低；沉积速率快；成膜质量好，针孔较少，不易龟裂等特点。