四元磁控溅射系统

仪器编号：2019110109；2020611509

运行状态：正常

功率：5000 W

能源单价：2.83 元 / 小时

测试单价：150.00 元 / 小时

已测试数：138 次

联系人电话：0551-63602037

该套磁控溅射系统是高真空磁控溅射系统，主要用于制备金属及金属氧化物薄膜材料（导体和绝缘体材料均可），配备氧气、氮气等气体，配备4套磁控溅射射频电源和靶材，可以实现多层薄膜溅射；另外，可以同时溅射1-4种组分，制备薄膜材料样品库，以实现多组分材料相图的研究。衬底加热温度可达800℃，可以设定衬底旋转速度得到不同粗糙度的薄膜样品，抽真空12小时候可达背底真空度2X10的-5Pa。目前主要用于各种高质量金属、氧化物外延薄膜的制备。