磁控溅射系统

仪器编号：20042466

运行状态：正常

功率：9000 W

能源单价：5.09 元 / 小时

测试单价：150.00 元 / 小时

已测试数：240 次

联系人电话：13866723762

该超高真空磁控溅射系统，可以用来沉积金属，氧化物等薄膜材料（导体和绝缘体材料均可），配备氧气、氮气等气体溅射环境，配备多磁控溅射射频电源和靶材，可以实现多层薄膜溅射；另外，可以共溅射制备多组分薄膜样品库，以实现多组分材料相图的研究。衬底加热温度可达600℃，可以设定衬底旋转速度得到不同粗糙度的薄膜样品，抽真空12小时候可达背底真空度3X10的-4Pa。目前能成熟生长高质量的钒氧化物外延薄膜等。