脉冲激光薄膜沉积系统PLD

仪器编号：S00104

运行状态：正常

功率：15000 W

能源单价：8.48 元 / 小时

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：534 次

联系人电话：13855166031

这套PLD系统激光器采用Coherent 205激光器，生长腔核心部件采用TSST产品； 脉冲激光沉积（Pulsed laser deposition，PLD）利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其脱离靶材进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术具有几大优点：一，激光能量高，可用于溅射各种难熔材料，而且不同成分全部溅射，可以得到与靶材成分一致的多元化合物薄膜；二，溅射既可在真空下也可在较高环境气压下进行，适合生长复杂的氧化物薄膜和各种不同性质的材料；三，激光源、靶、衬底相互独立，可分别控制。因此，其应用范围最为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。