美国Arridance原子层沉积（ALD）系统

仪器编号：1307274S

运行状态：正常

功率：8000 W

能源单价：4.52 元 / 小时

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：773 次

联系人电话：6360035

工作原理：原子层沉积技术通常是利用两种不同前躯体在载体物表面交替地发生自我饱和与自我约束反应的一种薄膜生长技术。在薄膜生长的最初生长阶段，通常是首先形成纳米颗粒，并随着沉积周期的增多，纳米颗粒逐渐长大、交叉、聚合，进而形成薄膜。该阶段形成的纳米颗粒尺寸大小通常同沉积周期数目成正比，使得人们可以通过控制沉积周期的数目精确调控纳米颗粒的尺寸。同时人们又可以把两种或多种不同物质的原子层沉积过程结合在一起，通过调节它们的先后沉积顺序和相对数目来精确调控制备出的混合型催化剂结构和成份，如双金属纳米颗粒、多金属纳米颗粒催化剂。该技术由于可以在原子层面上对催化剂的大小、结构和成份，为科学家在原子层面设计和制备新型催化剂，并进行系统的基础研究提供了极佳的机遇。 该仪器主要技术参数： 反应腔体温度：室温-300 °C， 反应腔体大小：适合直径6英寸、厚度1.25英寸的样品。 反应气路：8路 固态源温度：最高为140 °C