超高真空原位制样及分析系统

仪器编号：1505072s

运行状态：正常

功率：10000 W

能源单价：5.65 元 / 小时

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：100 次

联系人电话：0551-63600336

该设备主要为提供超高真空环境，并进行样品的原位制备，如金属与半导体单晶处理，氧化物薄膜制备，有机分子薄膜制备等。 拥有快速进样腔体，真空度可达5x1x10exp(-8)mbar；中心制备腔真空度好于1x10exp(-10)mbar，并装配有四维样品加热及操纵台，氩离子溅射装置，以及有机分子蒸镀源和高温金属蒸镀源，并装配有高纯气体引入装置。