椭偏仪（包含谱仪、自动变角基座、高低温台）

仪器编号：S00144

运行状态：正常

功率：6000 W

测试单价：400.00 元 / 小时

已测试数：129 次

联系人电话：0551-63601850

联系人邮箱：zzm@ustc.edu.cn

光谱型椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性的光学测量设备。可测的样品包括大块材料、薄膜以及在平面基底上生长或沉积的多层结构。多层固体、液体、与固体相邻的液体以及与固体接触的气相等离子体的特性等都可以用这一技术来探测。其应用包括光学镀膜和保护膜、聚合物、光刻材料、平面平板显示、计算机读写头以及半导体集成电路制造的研究开发。另外，在生物、医药、化学、电化学及基础材料研究等方面也有应用。椭偏仪可以测量低至单原子层的薄膜厚度，也可利用红外的长工作波长探测超过50 m 厚度的薄膜。 该仪器也可进行薄膜样品的高温和低温测试。 仪器：椭偏仪（J.A.Woollam, MU2000-U） 测试范围：光谱范围：245 nm 到 1000 nm，470 通道。光谱分辨率 1.6nm分辨率（波长小于1000nm）。数据采集：采样速率（最快）： 0.2秒（全光谱470个波长）；（典型）：5秒（全光谱470个波长）。 准确度：在直射状态下，测得的光束椭偏参量应满足下列标准（高精度模式，平均时间10秒）对于 90% 的测量波长, ψ= 45 ± 0.075° or Tan(ψ)=1± 0.0013；Δ= 0 ± 0.1° or cos(Δ)=1± 0.0000015。 重复性或精确度:ψ=45°时δψ=0.015°，Δ=0°时δΔ=0.015°，δt=0.03 Å 最大样品尺寸：直径200 mm 仪器附件：高低温台（-70-600度），标准热台（室温-300度），水平加热液体样品池（5 ml，室温-50度）