首页 仪器列表 JCP-200B型高真空磁控溅射仪

JCP-200B型高真空磁控溅射仪

仪器编号:1105581S

运行状态:正常

功率:5000 W

测试单价:50.00 元 / 小时

已测试数:996 次

联系人电话:63606554

联系人邮箱:lixg@ustc.edu.cn

配有单个永磁靶,直流溅射工作模式。适用于氧化物薄膜的制备。