脉冲激光沉积系统（一）

仪器编号：S00051

运行状态：偶有故障

功率：15000 W

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：445 次

联系人电话：0551-63606972

联系人邮箱：wuwb@ustc.edu.cn

脉冲激光沉积（PLD）Pulsed Laser Deposition是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速溅射蒸发靶材，生成与靶材组织相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源位于真空室外，这样，在材料合成的同时，工作压力的动态范围很宽。 技术指标 1、 系统从大气开始抽气，30min可达5.0*10-3Pa 2、 激光入射点距离地面高度1200mm 3、 入射激光与靶材平面理想夹角45度 4、 靶材转速：5~60rad/min 5、 基片转速：5~60rad/min 6、 基片最高温度750℃