超高真空多对靶磁控与离子束溅射镀膜系统（DPS-LIM）

仪器编号：20060144

运行状态：正常

功率：7000 W

能源单价：3.96 元 / 小时

测试单价：50.00 元 / 小时

已测试数：485 次

联系人电话：0551-63606554

本设备可用于开发纳米级的单层及多层功能膜——各种硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜，铁磁膜等材料，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。本系统主要由溅射室，离子束室，磁控溅射对靶（三组六只对靶），平面靶（二个），直流溅射电源，ＲＦ溅射电源，样品转台，加热炉，离子枪，转靶，泵抽系统，磁力传递送样机构，真空测量系统，气路系统，电控系统，水压报警系统和微观控制镀层系统等组成。