脉冲激光薄膜沉积系统PLD

仪器编号：S00104

运行状态：正常

功率：15000 W

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：571 次

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这套PLD系统激光器采用Coherent 205准分子激光器，使用KrF气体；生长腔转靶机构采用荷兰TSST产品；衬底采用红外激光加热； 脉冲激光沉积（Pulsed laser deposition，PLD）利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其脱离靶材进而在基底上沉积，从而形成薄膜。PLD技术具有几大优点：1）激光能量高，可用于溅射各种难熔材料，可以得到与靶材成分一致的多元化合物薄膜；2）溅射既可在真空下进行，也可在较高气压下进行，适合生长复杂氧化物薄膜；3）激光源、靶、衬底相互独立，可分别控制。