脉冲激光沉积系统（二）

仪器编号：S00052

运行状态：偶有故障

功率：15000 W

能源单价：8.48 元 / 小时

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：741 次

联系人电话：0551-63606972

通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构薄膜。PLD可用来制作具备外延特性的晶体薄膜。陶瓷氧化物（ceramic oxide）、氮化物膜（nitride films）、金属多层膜（metallic multilayers），以及各种超晶格（superlattices）都可以用PLD来制作。 技术指标 1、 系统从大气开始抽气，30min可达5.0*10-3Pa 2、 激光入射点距离地面高度1200mm 3、 入射激光与靶材平面理想夹角45度 4、 靶材转速：5~60rad/min 5、 基片转速：5~60rad/min 6、 基片最高温度750℃