超高真空磁控溅射仪

仪器编号：YQ080487

运行状态：正常

功率：3000 W

能源单价：1.70 元 / 小时

测试单价：200.00 元 / 小时

已测试数：453 次

联系人电话：63602060

主要技术指标（性能指标）： 1. 基片尺寸：≤Φ2英寸，基片加挡板。可加负偏压－200V。 2. 基片加热器温度：室温～500℃±1℃。 3. 基片架公转速度0～20转/分，可控可调。 4. 基片架可加热、可水冷、可旋转、可升降。 5. 靶面到基片距离50～90mm可调，有调位显示。 6. Ф2英寸圆形平面磁控溅射永磁靶，靶头可调角度；可镀铁磁材料的磁控溅射靶1支，可镀普通靶材的磁控溅射靶2支；靶材尺寸Ф2英寸。 7. 镀膜室极限真空：﹤10-5Pa，恢复工作背景真空6×10-4Pa：35分钟左右（充干燥氮气）。 8. 磁控溅射靶电源：射频源500W、13.56MHz；直流溅射电源，1000W。